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                                                        上海臨港艾為電子生產研發大樓和總部大廈

                                                        項目位置 : 上海
                                                        項目規模:166,710 平方米
                                                        設計時間:2021 年
                                                        設計靈感主要來源于艾為電子以芯片為核心領域的高科技,高精密的企業性質,以及艾為節能環保、以人為本的思想。
                                                        C 地塊建筑造型沒有花哨的外立面,純凈的玻璃使得建筑與景觀的隔閡消融,單一空間打破屏障,在建筑主入口便能看到臨港海水的柔美。A 地塊三個單體,公寓、倉庫、廠房,不是獨立的存在,他們由一種“芯”的力量將其融合在一起。立面自然形成計算機語言 01 代碼,高透玻璃和微晶石的組合,使得夜間燈光的變化自然形成了代碼的跳動,垂直綠化的點綴,將建筑融入自然。
                                                        推薦項目
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                                                        蘇州華興源創電子科技有限公司于2005年6月成立于中國蘇州高新區,現座落于蘇州工業園區東坊產業園,主要從事液晶模組信號檢測系統研發生產,同時覆蓋測試、設備、產品、智能、通

                                                        微信

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